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橢偏儀是一種利用偏振態(tài)的變化 后光束探測(cè)樣品反應(yīng)技術(shù)。不像反射儀，參數(shù)（PSI和Del）是在非正常的入射角得到。改變?nèi)肷浣恰？梢缘玫礁嗟臄?shù)據(jù)集，這將有助于精煉模型，減少不確定性和提高用戶的數(shù)據(jù)信心。因此，可變角度比固定角度的系統(tǒng)具有更強(qiáng)大的功能 。目前有兩種方法改變?nèi)肷浣牵謩?dòng)或自動(dòng)模式。

薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)：在硅片等基板上附膜時(shí)，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這個(gè)翹曲（曲率半徑）的變化量測(cè)量其應(yīng)力。

薄膜反射儀是一款相對(duì)較低成本和操作簡(jiǎn)單的工具。基于陣列的探測(cè)器系統(tǒng)保證快速測(cè)量，可升級(jí)到MSP（顯微分光光度計(jì)）系統(tǒng)，SRM映射系統(tǒng)，多通道系統(tǒng)，大點(diǎn)的·直接測(cè)量圖案或功能結(jié)構(gòu)。

光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x可根據(jù)客戶的需求，針對(duì)不同的工作測(cè)試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請(qǐng)咨詢德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)